等离子体清洁器蚀刻机用于等离子体蚀刻、表面清洁和活化的实验室等离子体清洗蚀刻系统。

等离子体清洁器蚀刻机产生氧气、氩气、氮气、氢气、CF4、SF6、环境空气或其他混合气体等离子体来灰化光刻胶，图案化后除渣，蚀刻二氧化硅和氮化物，去除碳氢化合物和其他表面污染物，改变表面能，提高结合强度。等离子体清洁器蚀刻机Tergeo系列等离子体系统是一种需要在低压下运行的真空等离子体系统。腔室直径分别为110mm、160mm和230mm。该室的深度为280毫米或340毫米。

等离子体清洁器蚀刻机应用

引线接合、芯片连接、倒装芯片接合工艺之前的清洁。
用于去除碳氢化合物污染的SEM/TEM样品清洗
生物医学涂层前的表面处理及提高科研植入物亲水性
环氧树脂粘合前的光学、玻璃和基板清洁
光刻胶灰化、descum和硅片清洗
PDMS、微流体、载玻片和芯片实验室
改善金属与金属或复合材料的结合
改善塑料、聚合物和复合材料的粘合
科研活化、灭菌并提高涂层附着力

等离子体清洁器蚀刻机特点

采用外部电极设计，等离子体均匀性*hao
用于定量等离子体强度测量的等离子体传感器技术
一个系统中的直接/浸没模式和远程/下游等离子体处理模式
连续和脉冲等离子体可以将清洁速度改变3-4个数量级。
高频13.56MHz射频电源，具有自动阻抗匹配功能。在相同的射频额定功率下，MHz等离子体系统的效率是KHz等离子体系统的许多倍。
xianjin的过程控制技术
质量流量控制器（MFC）调节气体输入，而不是手动转子流量计或粗针阀
xianjin的数字压力传感器，可实现精确的压力监测
全自动操作，支持20种配方
直观的电阻式触摸屏用户界面
外部射频电极和石英室可以消除带有内部金属电极的等离子体系统上的金属污染问题