光刻胶显影机PRD405/408/409是自动批量显影和冲洗晶片和光掩模上正性光刻胶工作站。光刻胶显影机利用一个处理槽进行显影和冲洗，以快速有效地处理晶片。快速填充和排空显影剂水和直接注入水可精确控制循环时间。显影剂被连续过滤并自动补充，温度被精确保持，以实现可靠和可重复的过程。
光刻胶显影机PRD405是理想的自动批量显影和晶片和光掩模上的正抗蚀剂冲洗的解决方案,。快速填充和排空两者显影剂和去离子水提供精确控制循环时间。连续过滤显影剂并自动补充，温度降低准确维护，确保可靠性和可重复性过程.
光刻胶显影机特点
适合6英寸晶片
高容量显影剂填充，快速再现
晶片的厚度和设计可限度地减少发泡
温度范围为50~100F,分辨率为±0.3F
可调机械搅拌，均匀搅拌显影
用于快速排空的大型快速排放阀显影机周期结束时
六个DI水喷嘴，快速有效显影周期终止
快速填充和倾倒直流水，实现快速循环
使用储液罐显影剂喷涂组件
从工艺罐和容器中排除水
显影剂正态性的维持
显影剂储层的氮屏障
自动补充，用于维护

 0.45μm显影剂过滤

 可编程微处理器控制