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离子研磨仪 IM4000II
面议超高分辨肖特基场发射扫描电子显微镜SU8700
面议多功能扫描探针显微镜AFM100 Plus /AFM100 系统
面议超高分辨场发射扫描电子显微镜 SU8600系列
面议光化学反应量热仪选配项 紫外线照射装置 PDC-7/PDC-7X 液体流量计
面议纳米尺度3D光学干涉测量系统 VS1800
面议超高分辨肖特基场发射扫描电镜 SU7000
面议基于设计数据的计量系统
面议高解析度FEB测量装置CS4800(CD-SEM)
面议高解析度FEB测量装置CG6300(HITACHI CD-SEM)
面议高分辨率FEB测长仪器 CG5000 (HITACHI CD-SEM)
面议半导体蚀刻系统9000系列
面议EA1000AIII 台式X射线荧光分析仪厂家
与本公司原有机型(SEA1000AⅡ)保持相同价格,同时通过全新采用硅半导体检测器、以及电气控制系和机械驱动的高速化,与原有机型(SEA1000AⅡ)相比较,平均检测时间缩短至1/3,并将以往的可选项、需另行购买的「环境限制物质测定软件Ver.2」变成了标准配置。
测量开始后只需少许时间就可判断样品的材质种类。以往,在测量前需要选择分析方法,有了自动判断材质的装置,在分析方法的选择上就不会再有困惑了。
EA1000AIII 台式X射线荧光分析仪厂家
操作面板上的指示器和电子音可以提示测量进行的状态。通过测量面板上的进度条,可以把握测量的进度。
除RoHS指令的限制对象元素(Cd,Pb,Hg,Br,Cr)以外,本公司还开发并制造了标准物质,其适用于以氯(Cl)为首的,锑(Sb)和锡(Sn)等的管理。
装载了可zui多对12个样品进行连续测量的样品转换器。
精度管理软件不仅缩短了测量时间,通过采用数据库对场所内测量数据的集中式管理(检索・阅览・解析・编辑・印刷・报告生成),还提高了检测的效率,降低了成本。
测量元素 | 原子序数Al(13)~U(92) |
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样品形状 | 液体、粉体、固体 |
X射线源 | 小型空冷室X射线管(Rh靶) 管电压50(可变) kV 管电流10~1000 µA |
X射线照射方向 | 下方垂直照射型 |
检测器 | Si半导体检测器(无需液氮) |
分析区域 | 1、3、5 mmΦ(自动切换) |
样品观察 | 彩色CCD摄像头 |
滤波器 | 5种模式自动切换 |
zui大样品尺寸 | 370(W)×320(D)×120(H) mm |
仪器尺寸 | 520(W)×600(D)×445(H) mm |
重量 | 60 kg |
电源/额定功率 | AC100~240 V(50~60 Hz)/180 VA |
样品交换机 | 可安装 *选购项 |