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离子研磨仪 IM4000II
面议超高分辨肖特基场发射扫描电子显微镜SU8700
面议多功能扫描探针显微镜AFM100 Plus /AFM100 系统
面议超高分辨场发射扫描电子显微镜 SU8600系列
面议光化学反应量热仪选配项 紫外线照射装置 PDC-7/PDC-7X 液体流量计
面议纳米尺度3D光学干涉测量系统 VS1800
面议超高分辨肖特基场发射扫描电镜 SU7000
面议高性能FIB-SEM系统 Ethos NX5000
面议日立样品检查自动化系统 LABOSPECT TS
面议* 日立LABOSPECT 008 AS
面议* 日立LABOSPECT 006
面议和光通用试剂
面议适用于对应4、6、8英寸晶圆的测量SEM
搭载日立技术的CD-SEM CS4800兼容4、6、8英寸晶圆的CD测量,提供高解析度的SEM成像,更高的测量精度和快速自动化操作,将有助于提高客户现有生产线的生产力。此外用户可以通过简单的操作处理自动搬送两种不同尺寸的晶圆。 日立计划支持对应碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等各种材料的晶圆,以满足客户对半导体电子器件生产的多样化需求。
测量精度 | 1nm(3σ)(采用日立标准晶圆) |
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晶圆尺寸 | 直径 100mm, 150mm, 200mm |
自动装片装置 | 2个 |
设备尺寸(主体) | 1180(宽)× 2500(长)× 1990(高)毫米 |