1. 桌面型，性能稳定、操作简便、使用成本极低、易于维护，高性价比。

2.小身材，有效处理面积大，可以轻松处理8寸硅片去胶等应用，可以处理203mm*203mm样品。

3.采用气浴电极，清洗效率高。

4.灵活的电极配置方案，最多可以处理2片8寸硅片

5.对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和表面改性。

1. 真空腔规格: 材质6061-T6铝合金 240mm*300mm*200mm

2. 电极：平板气浴电极，材质6061-T6铝合金

3. 电极尺寸：205mm *205mm

4. 频率：13.56MHz (可选配40KHz射频等离子源)

5. 功率：0-500W连续可调，精度1W,可在设备运行中随时调整参数

6. 气体控制：针式气体流量阀， 60-600ml 2路气体

7. 真空计：电偶式真空计，精度：0.01mTor

8. 控制方式：4.3寸工业控制触摸屏，全手动控制和全自动控制两种控制方式

控制软件功能：界面显示实时工作状态