Pluto-MD(8L)小型等离子去胶机

Pluto-MD(8L)小型等离子去胶机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-05-09 07:35:45
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上海沛沅仪器设备有限公司

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产品简介

去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程,在电子束曝光,紫外曝光等微纳米加工工艺后,都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题,将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、EMS/MOEMS、生物器件、......

详细介绍

产品特点

等离子去胶.gif 4_副本.jpg



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1. 桌面型,普通实验台即可安置。操作简便上手快、使用成本极低、易于维护。1


2.适合于4~6寸硅片及相同面积去胶,可选配硅片专用托盘。


3.内置双层气浴电极,有效提高清洗效率。配有节流阀,防止真空泵油雾回流。可选配耐用电极,降低长时间使用后的腔体污染。


4.配置200W/13.56MHz等离子发生器。兼顾物理作用和化学作用。

5.具备前后吹扫功能,保证样品处理洁净度,可配置独立吹扫气路。


6.可选配电极间距可调,对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和表面改性。



技术参数

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应用领域

PM去胶实验结果.jpg





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