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1. 桌面型,普通实验台即可安置。操作简便上手快、使用成本极低、易于维护。1
2.适合于4~6寸硅片及相同面积去胶,可选配硅片专用托盘。
3.内置双层气浴电极,有效提高清洗效率。配有节流阀,防止真空泵油雾回流。可选配耐用电极,降低长时间使用后的腔体污染。
4.配置200W/13.56MHz等离子发生器。兼顾物理作用和化学作用。
5.具备前后吹扫功能,保证样品处理洁净度,可配置独立吹扫气路。
6.可选配电极间距可调,对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和表面改性。