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CCP干法刻蚀机

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上海沛沅仪器设备有限公司

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产品简介

PLUTO-WIN是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比CCP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能CCP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性很好。

产品特点

-刻蚀形貌好、工艺性能

-高选择比、高刻蚀速率

-低拥有成本和消耗成本

技术参数

晶圆尺寸：6/8寸兼容

适用工艺：等离子体刻蚀

适用材料：SiO₂，Si₃N₄，etc.

应用领域

适用领域:化合物半导体、MEMS、功率器件、科研等领域

正文图片.png

SiO₂ 4um SiO₂ 2um SiN 2um

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