ICP干法等离子刻蚀机

ICP干法等离子刻蚀机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-07-03 07:38:52
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上海沛沅仪器设备有限公司

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产品简介

PLUTO-WIN是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统,它通过优化的系统设计与灵活的配置方案,获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小,专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全,且工艺稳定重复性很好。

详细介绍

产品特点

4/6/8英寸兼容,单片晶圆真空传输系统

低成本高可靠,适合研发及小规模生产

● 设备结构简单,外形小

● 操作简便、便于自动控制、适合大面积基片刻蚀

● 优异的刻蚀均匀性,刻蚀速率快

满足半导体标准的配方驱动及管理软件控制系统

● 选择比高、各向异性高、刻蚀损伤小

● 断面轮廓可控性高,刻蚀表面平整光滑


技术参数

晶圆尺寸:4/6/8英寸兼容

适用工艺:等离子体刻蚀

适用材料:SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy,etc.


应用领域

适用领域:化合物半导体,MEMS、功率器件、科研等领域


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