研究及小规模生产型：

微波功率：2.45GHz，6KW, 脉冲模式可选 （提高沉积速度和质量）；

样品台：直径75-100mm,旋转衬底可选（提高大面积均匀性）;

真空系统：oil pump/dry pump，TMP可选（营造高真空基准）；

控制方式：半自动或全自动（操作灵活）；

生长速率：高达30μm/h.

整体特点：专门生长大面积热沉级、光学级多晶薄膜配置，适合于研发、小规模生产。

大面积光学级金刚石厚膜生产研究型：

微波功率：915MHz，30KW；

水冷衬底：直径250mm或更大; 衬底加热和衬底旋转可选. 
          4个4英寸衬底, 加热和旋转衬底可选

真空系统：oil pump / dry pump+TMP（营造高真空基准）；

控制系统：全自动控制（适合大批量生产）；

生长速率：高达30μm/h, 或更高速率

整体特点：专门大面积金刚石薄膜研究及生产配置；可获得4-10英寸光学级金刚石厚膜，也可以用于研究合成曲面自支撑金刚石厚膜，请详细咨询！