高性能离子减薄仪（Ion Milling）

MU400高性能离子减薄仪（Ion Milling）

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2018-05-15 17:17:22
342
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上海续波光电技术有限公司

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产品简介

该设备用于薄膜处理，性能，代表性用户如：法国科学研究中心（CNRS）、意法半导体（ST）

详细介绍



系统简单配置如下： 

Load lock 
真空系统: 机械泵Oil pump/Dry pump + 涡轮分子泵/低温泵/电磁泵

离子枪: DC / RF 

均匀性：100 mm衬底 +/- 4%, 刻蚀速率降低均匀性优于+/-2% 

衬底尺寸：4英寸衬底（4-12英寸可选），水冷。 

终端检测系统：SIMS 或激光干涉仪。 

控制方式：全自动电脑控制，半自动或手动控制可选。 


详细信息和资料，请！

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