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预处理腔:衬底旋转、倾斜(3D);真空度10-8 Torr
蒸发镀膜腔:电子枪6-15KW;
可加载4英寸衬底;衬底旋转、倾斜,精度和重复性优于0.01°(可升级)
真空度10-10 Torr或10-11 Torr
频率分辨率10-4 Hz或更高;速率分辨率10-3 nm/s;厚度分辨率10-2 nm
氧化腔体:静态/动态氧化(氧气、氮气等);
真空度<10-8 Torr
全自动软件包,支持半自动和手动模式,支持远程网络操作和维护。
典型用户:耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所等
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