磁控溅射镀膜系统——用于超导体（Nb, NbN, NbTiN ） 

圆柱形主腔体：电抛光不锈钢

低温泵+干泵，真空度< 4×10 -8 Torr。

          三个6’’ DC磁控靶源，zui大可达8英寸；

          分别配备独立挡板，无交叉污染。

          RF加载到DC靶源可选，可用DC/RF。

          氩气和氮气气路可用

4’’衬底加热：zui高750℃, 均匀性5℃内；单色光学高温计

          样品台冷却：水冷

          石英晶振监测（DC/RF模式下均可）

          衬底RF刻蚀及偏压（13.56MHz，气冷）

LOAD LOCK （带自动传动手臂）

          分子泵+干泵，真空度< 2×10-7 Torr

          全自动传动衬底

控制单元：全自动电脑控制，半自动和手动模式可选；远程维护可用。