*配置：

蒸发腔体：

泵装置：低温泵/TMP+ 叶片泵/干泵；

真空度通常10-8Torr

电子束蒸发源：6-15KW

Load lock预真空进样室：

泵装置：TMP+叶片泵/干泵，

真空度<10-7 Torr

衬底支架：可加载4英寸衬底

衬底3D转动

衬底倾斜：角度范围请咨询, 精度和重复性优于0.1°（可升级）；

衬底旋转：20rpm.

气体接口：注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程

衬底清洗：配备离子枪

石英晶振膜厚控制仪；

频率分辨率：10-4Hz或更优

速率控制分辨率: 0.01 ?/s；

厚度分辨率: 0.01?

全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。

典型用户：Yale University、UCSB、普林斯顿大学、University of Waterloo、法国科学研究中心、University of Glasgow、日本NTT、清华大学等

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