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所在地
离子研磨仪 IM4000II
面议超高分辨肖特基场发射扫描电子显微镜SU8700
面议多功能扫描探针显微镜AFM100 Plus /AFM100 系统
面议超高分辨场发射扫描电子显微镜 SU8600系列
面议光化学反应量热仪选配项 紫外线照射装置 PDC-7/PDC-7X 液体流量计
面议纳米尺度3D光学干涉测量系统 VS1800
面议超高分辨肖特基场发射扫描电镜 SU7000
面议基于设计数据的计量系统
面议高解析度FEB测量装置CS4800(CD-SEM)
面议高解析度FEB测量装置CG6300(HITACHI CD-SEM)
面议高分辨率FEB测长仪器 CG5000 (HITACHI CD-SEM)
面议半导体蚀刻系统9000系列
面议MI4050是具有以下特征的高性能聚焦离子束系统:新型电子光学系统,可达到世界水准的SIM像分辨率・大束流使加工速度得以提升・提高了低加速电压的分辨率,使得高品质TEM样品制备成为可能
可用于截面加工观察,高品质TEM样品制备,电路修复,Vector Scan加工,微纳米级微细图形及磨具加工,利用沉积功能制作3维构造等众多样品加工应用。
焊线的截面加工
(加工尺寸 宽:95µm 深:55µm, 加工时间 20min)
正常部位
弯折部位
铝罐的截面SIM图像
可在样品台移动(包括倾斜)时自动对多个部位进行多种加工。
悬空纳米导线制作
样品来源:兵库县立大学 松井真二 先生
等间隔截面加工与截面观察的往复进行,可取的多张截面连续SIM像,并进行3维重构。由此可判断样品中颗粒,孔洞等3维分布状态。
半导体封装材料中的填料分布分析示例
该系统可对应保护膜材料、配线材料、绝缘膜、加速蚀刻等多种用途,照射多种气体。
使用XeF2气体实现的大深径比孔加工
以及采用钨沉积引线
日立*公司的坐标链接功能丰富多样,可确定正确的加工位置和大幅缩短时间。
项目 | 内容 |
---|---|
样品尺寸 | 50mm×50mm×12mm(t)以下 |
样品台 | 5轴电动机械优中心马达台 |
加速电压 | 1~30kV (0.5kV~ 选配) (0.5~1.0kV : 步长0.1kV) (1.0~2.0kV : 步长0.2kV) |
二次电子分辨率 | 4nm@30kV |
大探针电流 | 90nA |
大探针电流密度 | 50A/cm2 |