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Croma系列超大行程全自动三坐标测量仪
面议日立 超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列
面议日立 热场式场发射扫描电镜 SU5000
面议日立 超高分辨肖特基场发射扫描电镜 SU7000
面议日立 钨灯丝扫描电子显微镜 FlexSEM 1000 II
面议日立 高性能聚焦离子束系统 MI4050
面议日立 环境型原子力显微镜 AFM5300E
面议日立 全自动型原子力显微镜 AFM5500M
面议日立 钨灯丝扫描电子显微镜 SU3800/SU3900
面议日立 通用型原子力显微镜 AFM5100N
面议日立 原子力显微镜工作站AFM5000II/RealTune® II
面议日立 台式扫描电镜 TM4000II/TM4000PlusII
面议产品介绍:
专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的半导体器件,高分辨成像所设计。
产品特点:
新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.2 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM)
用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术,高效,灵活地收集SE / BSE/ STEM信号