EVG810 LT 低温键合 等离子活化系统2
应用:用于SOI,MEMS,化合物半导体和高级衬底键合的低温键合等离子体活化系统一、简介EVG810LT(LowTemp™)低温键合等离子活化系统是一个单独的单腔室系统,具有手动操作功能 参考价面议EVG850 TB-自动化临时键合系统 EVG键合机2
EVG键合机应用:全自动将临时晶圆晶圆键合到刚性载体上一、简介全自动的临时键合系统(晶圆键合机)可在一个自动化工具中实现整个临时键合过程-从临时键合剂的施加,烘焙,将设备晶圆与载体晶圆的对准和键合开始 参考价面议Filmetrics F32薄膜厚度测量仪2
在线测量的解决方案使用F32可以简单快速地在线测量膜厚 参考价面议FR-InLine:在线薄膜厚度测量仪2
1、简述FR-InLine是一款模块化可扩展的在线薄膜厚度测量仪(膜厚仪),可进行在线非接触测量3nm-1mm厚度范围内的涂层 参考价面议FPD Photomask缺陷检查装置 LODAS™ – LI系列
列真株式会社自创业以来,秉承“挑战、“创造、“诚实的经营理念,为顾客提供可靠、可信的产品和服务 参考价面议化合物半导体SiC、GaN晶圆检查装置 LODAS™ – CI8
列真株式会社自创业以来,秉承“挑战、“创造、“诚实的经营理念,为顾客提供可靠、可信的产品和服务 参考价面议GlassWafe缺陷检查装置 LODAS™ – BI12
列真株式会社自创业以来,秉承“挑战、“创造、“诚实的经营理念,为顾客提供可靠、可信的产品和服务 参考价面议Photomask Blanks缺陷检查装置 LODAS™ – AI50/100
列真株式会社自创业以来,秉承“挑战、“创造、“诚实的经营理念,为顾客提供可靠、可信的产品和服务 参考价面议FR-Ultra2
FR-Ultra:晶圆厚度测量系统FR-Ultra是一种紧凑型设备,专门用于快捷、准确和无损测量半导体材料的厚/超厚层及透明层 参考价面议EVG805-薄晶圆解键合系统
EVG键合机EVG805应用:薄晶圆解键合一、简介EVG805是半自动系统(晶圆键合机),用于剥离临时键合和加工过的晶圆叠层,该叠层由器件晶圆,载体晶圆和中间临时键合胶组成 参考价面议EVG805解键合晶圆键合机
EVG键合机EVG805应用:薄晶圆解键合一、简介EVG805是半自动系统(晶圆键合机),用于剥离临时键合和加工过的晶圆叠层,该叠层由器件晶圆,载体晶圆和中间临时键合胶组成 参考价面议EVG850 DB-自动解键合系统
应用:全自动解键合,清洁和卸载薄晶圆 参考价面议