光谱椭偏仪Mapping系列
品牌
生产厂家厂商性质
武汉市所在地
武汉颐光科技有限公司
组合推荐相似产品
ME-L 穆勒矩阵椭偏仪
SE-VM光谱椭偏仪
SE-VE光谱椭偏仪
SE-L光谱椭偏仪
SE-Mapping光谱椭偏仪
PMS 椭偏在线监测装备 椭偏仪
SE-PV光伏椭偏仪价格
SE-Glass 光谱椭偏仪价格
全自动椭偏检测机台价格 椭偏仪
RT-V 系列反射透射测量仪价格-逆反射标线测试仪
SR-C反射膜厚仪价格-膜厚计
原位监测椭偏仪IMS型
光谱椭偏仪SE-VM型
全自动Mapping光谱椭偏仪SE-100A
宽光谱穆勒矩阵椭偏仪ME-L型
光谱椭偏仪Mapping系列概述
是企业级高精度Mapping绘制化快速测量光谱椭偏仪,采用行业前沿优质硬件技术,配置全自动Mapping测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现产线薄膜在线、离线化全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。
——————————————————————————
光学Mapping快速椭偏测量解决方案
向导交互式人机界面,便捷的软件操作体验
配置Mapping模块,全基片自定义多点定位测量能力
丰富的材料数据库和算法模型库,强大的数据分析能力
产品特点:
采用高强度卤素灯光源,光谱覆盖可见光到近红外范围;
高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集;
自动Mapping绘制化测量技术 ,实现大尺寸样件全基片自定义快速Mapping测量;
数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料;
强大软件应用分析能力,针对半导体、集成电路、新型平板显示、薄膜光伏等领域中材料的厚度、光学常数、结构信息等数据通过建模拟合进行全面的快速分析;
产品应用
Mapping光谱椭偏仪 广泛应用于企业级在线以及离线工艺上,镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析:
首页
展台
留言
收藏
联系方式
仪表网采购电话