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宽光谱穆勒矩阵椭偏仪ME-L型概述
是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业zui前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。 ——————————————————————————
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产品特点
采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-1700nm);
可实现穆勒矩阵数据处理,测量信息量更大,测量速度快、数据更加精准;
基于双旋转补偿器配置,可一次测量获得全部穆勒矩阵的16个元素,相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信息;
技术参数:
基本功能 | 一次性获得全穆勒矩阵、椭偏参数、反射率/透射率、退偏度 |
光谱范围 | 193-1700nm |
光谱分辨率 | 0.5nm |
测量时间 | 1-8s |
入射角范围 | 45-90° |
微光斑尺寸 | 200μm |
重复性测量精度,100nm SiO2硅片(30次测量,1σ) | 0.002nm |
精度(直通测量空气) | 椭偏参数:Ψ= 45±0.05°,Δ= 0±0.1° |
穆勒矩阵:对角元素m=1±0.005,非对角元素m=0±0.005 | |
支持样件zui大尺寸 | 8寸 |
样品台调节 | 高度:0-20mm(自动) |
俯仰:±2° | |
XY:±12.5mm | |
Rz:0-360°(粗调) ±5°(精调,分辨率:0.05°) | |
软件 | 多语言界面切换 |
多达数千种的光学材料常数数据库,并支持用户自定义光学材料库 | |
提供多层各向同性光学薄膜建模仿真与分析功能 | |
提供多层各向异性光学薄膜建模仿真与分析功能 | |
提供多层周期性光栅结构建模仿真与分析功能
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仅供参考,详细参数信息请厂家确认