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P-300B P-300B 原子层沉积系统
具体成交价以合同协议为准
2024-01-17上海
- 型号
- P-300B
产品简介
PICOSUN™ P-300 系统拥有的热壁、独立的前驱体管路和特殊的载气设计，确保可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和的电学和光学性能的高质量 ALD 薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷，大限度减少系统的维护停工期和使用成本。拥有技术的 Picoflow™ 使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效，并已在生产线上得到验证。
详细信息
衬底尺寸和类型
● 200mm 晶圆 25片/批次（标准间距）
● 150mm 晶圆 50片/批次（标准间距）
● 100mm 晶圆 75片/批次（标准间距）
● 非标准晶圆类基底（使用定制夹具）
● 高深宽比基底（深宽比 1 : 2500）
工艺温度
● 50°C – 500°C
标准工艺
● 批量生产的平均工艺时间小于 10 秒/循环*
● Al2O3，SiO2，Ta2O5，HfO2，ZnO，TiO2，ZrO2，AlN，TiN 及各种金属
● 同一批次薄膜不均匀性 < 1% 1σ，(Al2O3，WIW，WTW，B2B，49pts，5mm EE)**
基片加载
● 气动升降
● 手动装载
● 线性半自动装载
前驱体
● 液态，固态，气态，臭氧源
● 源瓶余量传感器，提供清洗和装源服务
● 4 根独立的源管线，最多加载 8 个前驱体源
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