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大尺寸原子层沉积系统 技术成熟 放心选购

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2023-10-03
型号
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产品简介
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C(可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制)
详细信息

设备规格
工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)
前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶
加热系统:可加热温度范围:RT~150℃
反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)
载气:标准:N2, MFC 流量控制(可定制)
压力监测:双薄膜规组合(耐腐蚀),0.005Torr - 1000Torr
本底真空度 lt;5x10-3 Torr
真空系统:标准油泵
控制系统:19寸显示器,支持触控工业级嵌入式工控机,高可靠性,支持扩展
操作系统:Win7 操作系统工业级可编程逻辑控制器,支持现场总线与实时多任务处理操作
高温加热模块:独立的源瓶加热模块,可支持RT~200℃
预留模块:预留等离子体系统接口,无需更换腔体即可直接升级至等离子体系统(PEALD),实现Thermal-ALD与PEALD的双模式切换

市场与应用
广泛应用于纳米材料、太阳能电池、催化、锂电池、光学镀膜、生物医疗、OLED等方面,可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。

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