近距离蒸发镀膜炉 镀膜机

近距离蒸发镀膜炉
具有11“外径的石英管。它是专为PVD或CSS（近距离升华）薄膜涂层3英寸直径或2“×2“。采用两组卤素加热器（顶部和底部），zui大加热速率20ºC/s。两个30段精密温度控制器内置，精度为+/-1ºC。包括RS485端口和控制软件，允许通过PC操作炉子和温度曲线记录。它是研究新一代太阳能电池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和钙钛矿太阳能电池。 参考价面议

单室磁控溅射镀膜仪 镀膜机

单室磁控溅射镀膜仪
主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。 参考价面议

真空磁控溅射镀膜系统 镀膜机

真空磁控溅射镀膜系统
永磁磁控溅射靶（三个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。广泛应用于科研院所，实验室制备单层或多层薄膜，以及新材料新工艺研究。 参考价面议

小型3靶等离子溅射镀膜仪 镀膜机

小型3靶等离子溅射镀膜仪
带有触摸屏数字控制器和能够加热至500℃的基板加热器。可以将1-3种金属材料涂覆到直径为50mm的样品上。 有三个溅射靶：金、银、铜包括在内可立即使用。 参考价面议

可编程温控热蒸发镀膜仪 镀膜机

可编程温控热蒸发镀膜仪
共有4个蒸发源坩埚和精密的可编程温度控制。 可以使用四个蒸发坩埚沉积多种不同的材料，以在相同的腔室气氛中一个接一个地生长多层膜。该系统适用于涂覆大多数金属和有机材料薄膜，尺寸至多为2“从200ºC至1500ºC（或200ºC-1700ºC，可选B型热电偶）。 参考价面议

800℃近距离蒸发镀膜炉 镀膜机

800℃近距离蒸发镀膜炉
配有11“内径的石英室和5“×5“旋转样品架。它设计用于CSS（近距离升华）薄膜涂层，可达5“圆形或方形晶圆样品，工作温度可达800℃。炉体由两组卤素加热器（顶部和底部）分别加热，zui高温度为10℃顶部样品架可旋转，实现高均匀性涂层，是研究CdTe，硫化物和钙钛矿太阳能电池等新一代太阳能电池薄膜的理想工具。 参考价面议

可程控磁控溅射镀膜仪 镀膜机

可程控磁控溅射镀膜仪
主要由溅射真空室、磁控溅射靶、离子轰击、公转基片台、光加热系统、溅射电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等组成。 参考价面议

电子束蒸发镀膜仪 镀膜机

电子束蒸发镀膜仪
E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。 参考价面议

激光镀膜设备 镀膜机

激光镀膜设备
样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。 参考价面议

有机无机蒸发镀膜仪-镀膜机

有机无机蒸发镀膜仪
主要由二个有机材料生长室组成，两个有机材料生长室之间通过闸板阀联接，其中一个生长室系统预留与手套箱对接接口，能够完成二套独立的制备薄膜系统之间互相传送基片。的有机材料生长室主要由真空室腔体组件、有机蒸发源、热阻蒸发舟、样品传递装置、样品台、膜厚监测仪、真空室照明装置、烘烤装置等组成。 参考价面议

自动超声喷雾热解涂膜机 镀膜机

自动超声喷雾热解涂膜机
是一种台式超声喷雾热解设备，其中诸如溶液的分配速率和喷头移动速度的参数由软件界面准确控制。由步进电机控制的正排量泵用于根据需要分配溶液。 参考价面议

磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备 镀膜机

磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备
在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化，应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。 参考价面议