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KRI 线性霍尔离子源 eH Linear

上海伯东代理美国* KRI 线性

离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.

霍尔离子源 eH 400 尺寸

尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”

放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数

型号	eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5
供电	DC magnetic confinement
- 电压	40-200V VDC
- 阳极结构	模块化
电源控制	eHL-30010A
配置	-
- 阴极中和器	Filamentless
- 离子束发散角度	> 45° (hwhm)
- 阳极	标准或 Grooved
- 底座	移动或快接法兰
- 高度	10 cm
宽度	10 cm
- 长度	~ 100cm
-工艺气体	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others

Model	eHL 200-3	eHL 200-5
Height (nominal)	2.9” (7.4cm)	2.9” (7.4cm)
Width (nominal)	3.3” (8.4cm)	3.3” (8.4cm)
Length (nominal)	Determined by number of modules & application	Determined by number of modules & application
Cathode/Neutralizer	Yes	Yes
Anode module	Yes	Yes
Filamentless	Yes	Yes
Orientation	Vertical / Horizontal	Vertical / Horizontal
Process gases	Inert, reactive, & organic	Inert, reactive, & organic
Power controller	eH Plasma Power Pack	eH Plasma Power Pack

霍尔离子源 Gridless 提供高电流低能量 end-Hall 系列产品, 包含宽束霍尔离子源和电源控制器, 整体设计, 易于系统集成, 霍尔离子源典型应用: 辅助镀膜 IABD, 镀膜预清洁 ISSP, 离子蚀刻等

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产

考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

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上海伯东 : 罗先生

产品简介

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