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美国 KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列

上海伯东美国*考夫曼

离子源 KDC 系列, 加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 增强设计输出高质量,稳定的电子流.

美国 KRI 考夫曼公司新升级 Gridded KDC 系列离子源, 新的特性包含自对准离子光学和开关式电源控制. 考夫曼

离子源 KDC 系列包含多种不同尺寸的离子源满足各类应用. 考夫曼离子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼离子源, 电子中和器, 电源供应器等等可以直接整合在各类真空设备中, 例如实验室小型研发, 镀膜机, load lock, 溅射系统, 卷绕镀膜机和线性镀膜.

美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 特性：

通过加热灯丝产生电子

低电流高能量宽束型离子源

美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 应用：

辅助镀膜(光学镀膜) IBAD

溅镀&蒸镀 PC

表面改性, 激活 SM

沉积 DD

离子溅射沉积和多层结构 IBSD

离子蚀刻 IBE

美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数：

型号	KDC10	KDC40	KDC75	KDC100	KDC160
电压	DC magnetic confinement
- 阴极灯丝	1	1	2	2	2
- 阳极电压	0-100V DC
电子束	电子束
- 栅极	,自对准
- 栅极直径	1 cm	4 cm	7.5 cm	12 cm	16 cm
中和器	灯丝	灯丝	灯丝	灯丝	灯丝
电源控制	KSC 1202	KSC 1202	KSC 1212 或 KSC 1202	KSC 1212	KSC 1212
配置	-
- 阴极中和器	LFN 1000	LFN 1000	LFN 2000	LFN 2000	LFN 2000
- 高度	4.5'	6.75'	7.9'	9.25'	9.92'
- 直径	1.52'	3.5'	5.5'	7.6'	9.1"
- 离子束方向	聚焦平行散设	聚焦平行散设	聚焦平行散设	聚焦平行散设	聚焦平行散设
-加工材料	金属电介质半导体	金属电介质半导体	金属电介质半导体	金属电介质半导体	金属电介质半导体
-工艺气体	惰性活性混合	惰性活性混合	惰性活性混合	惰性活性混合	惰性活性混合
-安装	2-12”	6-18”	6-24”	8-36”	8-45”

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列, 栅极灯丝型离子源, 通过加热灯丝产生电子, 提供低电流高能量离子束. 离子束可选聚焦,平行, 散设三种方式, KDC 系列离子源适用于离子溅镀和蒸发镀膜 PC, 辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD, 表面改性, 激活 SM, 离子溅射沉积和多层结构 IBSD, 离子蚀刻 IBE 等.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产

考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生中国台湾伯东 : 王小姐

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