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考夫曼离子源 RFICP 380 特性:

1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.

2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配

2. 离子源结构模块化设计

3. 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行

4. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用

5. 中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性

6. 通气 Ar, O2, N2, others

7. 离子束流: 电流: > 500毫安, 能量 100-1200eV

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产

考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

考夫曼离子源 RFICP 380 技术参数

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上海伯东 : 罗先生                               中国台湾伯东 : 王小姐