脉冲激光沉淀系统工作站PLD是氧化还原系统，脉冲激光沉积（PLD）是一种用于薄膜沉积的多用途工艺，其主要优点是将化学计量的材料从靶转移到衬底。
SURFACE PLD工作站是一个优秀的薄膜原型制作和研究系统，可方便地获取新材料，尤其是高级氧化物层。
PLD脉冲激光沉积工作站将PLD系统的所有组件（包括激光和激光气体供应）集成到一个机架中。紧凑的设计能够最灵活地使用系统，并避免了许多硬件安装工作。所有这些都是的多功能性的关键，即使对于没有PLD技术经验的用户，也可以使用脉冲激光沉积PLD！

脉冲激光沉积PLD工作站以强大而紧凑的封装提供*的沉积技术，适用于广泛的应用。尽管具有所有内置的灵活性，但安全始终是优先事项：
封闭的激光束线，带有外部驱动的反射镜调节，可安全地防止暴露于紫外线激光辐射
激光器和激光器气体柜连接到外部排气管

脉冲激光沉淀系统工作站真空室：灵活性良好
工作站视口真空室是为研究而设计的。它具有适用于见的现场分析工具或其他系统扩展的备用法兰：
光学分析方法：OES或FTIR
RHEED
质谱仪器
额外的沉积或等离子源
此外，两个窗口允许从两个不同的角度和两侧对过程进行视觉接触。大前门可进入主要工艺部件：靶材和基板操纵器。标准配置提供2“基板加热器和4×2”分度目标操纵器。可选1“基板加热器和激光加热器。
为了调节工艺条件，标准配置了两个用于将工艺气体供应至腔室的质量流量控制器通道。它们能够自动控制工艺气氛和压力。
通过结合控制软件设计目标操纵器，避免了目标表面上的锥体形成，并保证了目标的均匀磨损。激光束将以两个不同的入射角照射目标的每个点，因此无法形成影响烧蚀材料化学计量的锥体。
为了实现均匀的目标磨损，沉积过程中有两种不同的目标运动模式：
摇摆：目标转盘以连续运动的方式来回移动，以便激光束在距离目标中心任意半径处击中目标。该模式易于设置，只需知道目标直径。
扫描：移动目标转盘，使激光束在目标上“写入”定义的轨迹。调整目标旋转速度和轨道间距以匹配激光光斑大小和重复率。这实现了目标表面的非常均匀的磨损。

脉冲激光沉淀系统工作站控制软件
所有SURAFCE PLD系统都高度自动化，以控制整个沉积过程。这确保系统易于操作。PlumeMaster软件基于经验证的Windows XP Professional操作系统。具有单独设置的几个工艺步骤可以组合成一个沉积程序。直观的过程可视化、具有数据导出功能的高度灵活的数据记录和自检功能是附加功能。
所提供的软件还包括SURFWARE——来自SURFACE的高级客户支持工具：
与SURFACE支持组快速联系
SURFACE支持工程师通过互联网（TCP/IP）和集成网络摄像头提供视听支持
支持工程师可以远程控制系统，同时保持视听联系
通过过程编程轻松解决硬件问题和客户问题
通过互联网的自动软件更新程序

脉冲激光沉淀系统工作站规格参数
激光：相干COMPexPro 201F或205F，脉冲能量0.7 J
波长：248 nm
激光气体：20升预混气体，10升氦气，内置气体柜
工艺气体：2个MFC通道，自动压力控制
基板加热器：直径1“或2”，1000°C（其他尺寸可根据要求），或激光加热器
基板旋转：0至50 rpm
目标：4×2“，目标旋转（0-50 rpm）和位置，带有轨迹控制，磨损均匀
控制系统：基于PC的控制，集成TFT显示器
IT功能：LAN连接、SURFWARE支持软件
尺寸：约。2200×850×1600毫米³
电源：3×400 VAC/50 Hz或3×208 VAC/60 Hz
水冷：包括冷却器（201F）