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FPTOR-ICPRIE 感应耦合反应离子刻蚀系统
具体成交价以合同协议为准
2023-03-30
- 型号
- FPTOR-ICPRIE
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产品简介
感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE由射频电源感应产生等离子体,以产生各向异性蚀刻
详细信息
感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE由射频电源感应产生等离子体,以产生各向异性蚀刻。在基本ICP-RIE蚀刻系统中，射频直接连接到用作电极的样品台，产生各向同性等离子体。ICPRIE刻蚀系统有时被称为桶型蚀刻机。
最初的ICP反应器由石英管组成，射频线圈缠绕在石英管周围，以产生等离子体，从而产生各向异性蚀刻。感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE有多种类型，其中一种重要类型是将电容耦合偏压与样品台相结合，以实现电感耦合RF等离子体蚀刻特性的工艺控制。应用包括电介质材料的干蚀刻。
感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE详情请联系我们索取。
最初的ICP反应器由石英管组成，射频线圈缠绕在石英管周围，以产生等离子体，从而产生各向异性蚀刻。感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE有多种类型，其中一种重要类型是将电容耦合偏压与样品台相结合，以实现电感耦合RF等离子体蚀刻特性的工艺控制。应用包括电介质材料的干蚀刻。
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