光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2

光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的zui小粒径为0.35μm。并且通过线＆空间1.0〜1.5μm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在zui低限度。

光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2特征

• 0.35μm的检测灵敏度，90%的检测率。
• 操作灵活的菜单便于使用。
• zui多可直接从多级分类器内的光掩模盒中装载10片光掩模。
• 可直接观察玻璃(Glass)面和图案(Pattern)面。
• 便利的数据管理便于制做报告。
• 新信号处理方式有利于减少检测错误。
• 使用环境，图案表面上的污染物的zui小可测粒径为0.35μm。
  通过光掩模宽度1.5μm、线间1.5μm的图案判别功能，可以把检测误差抑制在zui小限度内。 

光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2应用

在下列工艺中，可以用于细微异物的检测中。

光掩模制造工艺
1)光掩模坯件上的异物检测
2)EB中描画・清洗后的图案/玻璃面的异物检测
3)表膜粘贴后的图案/玻璃/表膜各面的异物检测
4)粘贴前表膜单体的异物检测(可选件功能)

曝光工艺
1)光掩模的接收检査(入库检查)
2)曝光前的光掩模例行程序的异物检测(工艺管理) 
3)光掩模的定期异物检测(工艺管理)

优点

在图案面，0.35μm的异物检测灵敏度
高速过量地检测图案/玻璃/表膜各面
带有上下面异物观察功能(观察倍率多级切换) 
可应用于各种缩小投影型曝光装置盒(适用于多级曝光装置盒：zui大可达到10级) 
各种各样的检査条件设定功能和简便的检测操作
内置数据管理功能，可以输出各种各样的报告。
支持GEM通信功能(顾客要求的功能　可选件) 
高可靠性、低运营成本