光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统PR-PD3

外形小巧、运营成本低、应用范围广光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统PR-PD3系列产品运转效率高，具有*稳定性，受到众多半导体制造工厂的高度评价。继承了各个结构简单、*稳定运转的搬运系统，高通过量、可靠性高的光学系统。以及具有防误测功能等高性能设备并巧妙组合成一个整体的产品就是PR-PD3。和以往的机型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了约1/2，追求低运营成本。检测灵敏度达到0.5μm，具有广泛通用性。诞生了可以用来满足光掩模(reticle/mask)上异物检测这一广泛需求的简便装置。

光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统PR-PD3特征

• 和以往机型相比，设计小了1/2左右。 和PR-PD2相比较，底面面积小了1/2，实现了小巧化。由于占地面积大幅变小，所以即使添加操作装置(可选件)，也可以自由地进行布局。
• 实现了低运营成本。 采用激光中具有超群经济性的氦氖激光，同时，采用了结构简单的载物台搬运系统等，大幅度地降低了维护运营成本。
• 有效的防误测措施。 搭载有粗图案用的偏振差动和细微图案用的低通差动这二个功能。通过同时使用这二种方法，可以有效地防止OPC等具有两种特性的图案误检测。