JYSC-1000离子溅射仪

JYSC-1000离子溅射仪

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-05-12 07:41:49
212
产品属性
关闭
广州竞赢化工科技有限公司

广州竞赢化工科技有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

此款JYSC-1000型小型磁控离子溅射仪主要用于SEM制样样品镀导电膜(如金膜)或材料镀膜,仪器性能稳定,操作简单方便

详细介绍

此款JYSC-1000型小型磁控离子溅射仪主要用于SEM制样样品镀导电膜(如金膜)或材料镀膜,仪器性能稳定,操作简单方便。采用磁控冷态溅射,基本不升温,限度保护样品。

主要特点:

² 显示操作面为30°斜面,充分考虑操作的便捷和视觉体验,方便观察操作;

² 真空泵连接管路为金属波纹管,美观耐用;

² 微调阀调节灵敏准确,带有刻度标识;

² 真空泵抽速快,噪音低,适合实验室使用;

² 控制电路为控制板,工作稳定可靠;

² 显示控制操作部分布局合理,位于同侧,使用方便;

² 磁控冷态溅射,基本不升温,限度保护样品;

技术参数:

1.样品室空间:直径120mm×高110mm
2.Au靶为标配,靶材尺寸:φ50mm×0.1mm
3.独立真空控制电路设计,实现真空度和溅射电流,安全互锁,可调电流40mA;
4.侵入式磁控低温离子源,可快速更换靶材,环绕暗区护罩;
5.使用独立计时控制器,精准计时,可调设置范围:1-500秒,连续可调
6.自动真空泄气功能,自动排气,可通过数字定时器进行控制
7.进口真空泵,抽速8.5m3/h,噪声不大于48dB,可置于抗震台上,全金属集成耦合系统
8.微型真空气阀:高精度微量流量阀,精度±0.1Pa

上一篇:Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片 下一篇:Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 刻蚀碳化硅微光学元件
热线电话 在线询价
提示

仪表网采购电话