JY-S100离子溅射仪(喷金仪)

JY-S100离子溅射仪(喷金仪)

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-10-29 10:22:06
408
产品属性
关闭
广州竞赢化工科技有限公司

广州竞赢化工科技有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

JY-S100离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上小型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜

详细介绍

JY-S100离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上小型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

主要特性

l 通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。

l 操作容易快捷,控制的参数包括放气以及氩气换气控制。

l 数字化的喷镀电流控制不受样品室内气压影响,可得到一致的镀膜速率和高质量的镀膜效果。

l 可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au 靶为标配),靶材更换快速方便。

技术参数


溅射系统

样品仓尺寸 120 x120mm

靶材

Au 靶为标配,可选 Pt,直径 57mm x 0.1mm

标准样品台

可以装载 12 SEM 样品座,高度可调范围为 60mm

※旋转倾斜样品台(选配

旋转速度:0~60rpm 连续可调,倾斜角度:-90°~ 90°连续可调;

不锈钢腔体:直径 120mm X 75mm

观察窗:直径 120mm X 45mm

标配旋转台直径 40mm,可放 4 个标准样品台,其它规格可订做;具有双重锁紧装置,可确保样品在旋转倾斜时不会松动脱落。

溅射电流

微处理器控制,安全互锁,可调,电流 5~30mA,程序化数字控制

计量表

真空: Atm - 1*10-3mbar,电流:0~99mA

控制方法

带有“开始”“暂停”按钮的微处理控制器(1999s),自动抽气、溅射、关机后自动放气。

真空系统

抽气速率

133L/MIN

极限真空

10-4 mbar

噪音

56dB

上一篇:Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片 下一篇:Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 刻蚀碳化硅微光学元件
热线电话 在线询价
提示

仪表网采购电话