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基本功能 | 1,针对微小区域测试单、多层透光薄膜的厚度、折射率以及吸收系数 2,实现薄膜均匀性检测 3,宽光谱范围同时有效满足材料分析、探测等应用 |
产品特点 | l 强大的数据运算处理功能及材料NK数据库; l 简便、易行的可视化测试界面,可根据用户需求设置不同的参数; l 实现微小区域薄膜分析研究; l 快捷、准确、稳定的参数测试; l 支持多功能配件集成以及定制; l 支持不同水平的用户控制模式; l 支持多功能模拟计算等等。 |
系统配置 | 型号:MSP500RTMF 双探测器系统:2048像素的CCD阵列用于UV-Vis,InGaAs阵列用于NIR 光源:高功率的DUV和可见光光源 自动的台架平台:特殊处理的铝合金操作平台,手动调节移动范围为100mm×75mm 焦距:螺杆控制的自动调焦 物镜有着长焦点距离:4×、10×、15× 、50×(包括一个DUV物镜)通讯接口:USB的通讯接口与计算机相连 软件:带有全自动成像功能和2D/3D图形输出的TFProbe 2.2VM版本的软件。 测量类型:反射/透射光谱、薄膜厚度/反射光谱和特性尺寸 计算机硬件:英特儿酷睿2双核处理器,19”LCD显示器 电源:110–240V AC/50-60Hz,3A 尺寸:16’x16’x18’ (操作桌面设置) 重量:120磅总重 保修:一年的整机及零备件保修 |
规格 | 波长范围:250nm到1700 nm 波长分辨率: 1nm 光斑尺寸:100μm (4x), 40μm (10x), 30μm (15x), 8μm (50x) 基片尺寸:zui多可至20mm 测量厚度范围: 20? 到25 μm 测量时间:zui快2毫秒 精确度*:优于0.5%(通过使用相同的光学常数,让椭偏仪的结果与热氧化物样品相比较) 重复性误差*:小于2 ? |
可选配件项 | l 波长可扩展到远DUV或者长NIR范围(~2500nm) l 可根据客户的特殊需求来定制 l 在动态实验研究时,可根据需要对平台进行加热或致冷 l 可选择的平台尺寸zui多可测量300mm大小尺寸的样品 l 更高的波长范围的分辨率可低至0.1nm l 各种滤光片可供各种特殊的需求 l 可添加应用于荧光测量的附件 l 可添加用于拉曼应用的附件 l 可添加用于偏光应用的附件 |
应用领域 | 主要应用于透光薄膜分析类领域: l 玻璃镀膜领域(LowE、太阳能…) l 半导体制造(PR,Oxide, Nitride…) l 液晶显示(ITO,PR,Cell gap...) l 光学涂层,TiO2, SiO2, Ta2O5... .. l 半导体化合物 l 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜 l 非晶体,纳米材料和结晶硅 |