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Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 电子束刻蚀系统
¥13Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 电子束刻蚀系统
¥13Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 电子束刻蚀系统
¥13Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 电子束刻蚀系统
¥13零件检漏系统-检漏仪 Hakuto-Dan-100
¥11ATC 空气检漏仪 ME3
¥13ATC 空气检漏仪 ME2
¥12ATC 空气检漏仪 IPE2、IPE2-HP
¥10ATC 紧凑型空气检漏仪 E-PDQ (EQ)
¥11ATC 高灵敏度型微流量空气检漏仪 VE2
¥12ATC 压差型微流量空气检漏仪 E2
¥11Gel-Pak 真空释放(VR)托盘-芯片
¥10Pfeiffer 分子泵在LOW-E(低辐射玻璃)生产线中的应用
LOW-E全名Low emissivity,是低辐射镀膜玻璃。相对热反射玻璃而言是一种新型节能玻璃。目前上普遍采用真空磁控溅射镀膜技术(离线法)生产Low-E玻璃。伯东公司销售的德国普发 Pfeiffer 分子泵成功应用于此。
原理:玻璃垂直放置在架子上,送入10-1帕数量级的真空环境中,通入适量的工艺气体(惰性气体Ar或反应气体O2、N2),并保持真空度稳定。将靶材Ag、Si等嵌入阴极,并在与阴极垂直的水准方向置入磁场从而构成磁控靶。以磁控靶为阴极,加上直流或交流电源,在高电压的作用下,工艺气体发生电离,形成等离子体。其中,电子在电场和磁场的共同作用下,进行高速螺旋运动,碰撞气体分子,产生更多的正离子和电子;正离子在电场的作用下,达到一定的能量后撞击阴极靶材,被溅射出的靶材沉积在玻璃基片上形成薄膜。为了形成均匀*的膜层,阴极靶靠近玻璃表面来回移动。为了取得多层膜,必须使用多个阴极,每一个阴极均是在玻璃表面来回移动,形成一定的膜厚。
德国普发 PFEIFFER 凭藉其120多年的真空制造经验和范围内的售后服务和技术支援赢得LOW-E市场客户的青睐,德国冯.阿登纳(VON ARDENNE)是zui典型的客户。PFEIFFER 分子泵的LOW-E生产线使用在信义玻璃,南玻等中国玻璃制造*。
Pfeiffer 分子泵优点:
Ø 多抽速供客户选择,抽速为1,000至2,000L/S
Ø 对于H2,He和Ar,CF4有高的抽速
Ø 安装位置从0到90度,90到180度
Ø 高的气体流通量,即使是Ar,CF4
Ø 集成的TC 1200驱动单元可直接连接电源
Ø 抗腐蚀能力供选择
Ø 丰富的介面介面:RS-485以及远端控制;profibus或者Devicenet可供选择
Ø 拥有IP 54和Semi S2 等级
Ø 稳定安全的转子轴承系统
Ø 符合UL,CSA以及TUV认证
Ø 简单的安装
伯东公司作为优秀的德国PFEIFFER真空设备中国供应商。深圳,上海设有德国PFEIFFER同步的服务中心,提供完善的售前,售后服务。
伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪;质谱分析仪;真空系统以及美国 Brooks CTI Cryo pump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.Gamma离子泵等。
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