上海伯东日本*适合中等规模量产使用的 Hakuto 离子刻蚀机, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却

Hakuto 离子蚀刻机 IBE 主要优点:
1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.
2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.
3. 配置使用美国考夫曼离子源
4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.
5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.
6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.
7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C技术参数:

 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成:

 Hakuto 离子蚀刻机通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率: