美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 等离子清洗器-上海伯东企业有限公司手机版

产品简介

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 40. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.
离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量（Typical flow）: 2-10 sccm.
加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.

详细介绍

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 40. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.

离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-10 sccm.

加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数：

离子源型号	离子源 KDC 40
Discharge	DC 热离子
离子束流	>100 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	4 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-10 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	17.1 cm
直径	9 cm
中和器	灯丝

伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域：

1. 溅镀和蒸发镀膜 PC

2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

5. 离子蚀刻 IBE