PECVD&RIE联合系统
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深圳海创德科技有限公司
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矽碁还专为客户定制过性价比的PECVD与RIE联合系统，该联合系统采用统一的真空气路及电控系统，在实现多功能的前提下有效节省成本。
技术参数：
1 基片尺寸可定制；
2 氧化硅、氮化硅及多晶硅镀膜；
3 金属、电解质和III-V族材料刻蚀；
4 镀膜及刻蚀均匀性优于 ±5%；
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