MIDAS为的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

型号：MDA-80SA

厂家链接：.cn/

易于操作的用户界面，PLC操作与PC控制，图像抓取和数据日志，100多个程序配方，电动操纵杆控制，电动变焦显微镜和样品台

•操纵杆控制，半自动

•掩模版尺寸高达9英寸

•基板尺寸6~8英寸

•均匀光束尺寸10.25*10.25英寸

•紫外线光源：紫外线灯，2 kW

•光束波长350~450 nm

•光束均匀性<±5%

•365 nm强度~25 mW/㎠

•定位方法：操纵杆控制，半自动

•对准精度1 um

•操作模式：软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率：1 um@1 um PR厚度，真空接触