MDA-400M光刻机
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

产地：韩国MIDAS公司，能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比
型号：MDA-400M
厂家链接：.cn/

MDA-400M

易于操作和安装，处理各种尺寸的基板，带触摸屏面板的PLC控制

•全手动类型

•掩模版尺寸达5英寸

•基板尺寸为4英寸圆形

•均匀光束尺寸4.25*4.25英寸

•光源：紫外线灯，350 W

•光束波长350~450 nm

•光束均匀性<±3%

•365 nm强度 ~25 mW/㎠

•手动对准

•对准精度1 um

•操作模式：软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率 1 um@1 um PR厚度，带真空触点

•尺寸（mm）1080（宽）*1060（深）*1580（高）