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合肥市所在地
1200℃双温区CVD系统(低真空、高真空)型号:BTF-1200C-II-CVD
面议双温区滑轨式PECVD系统PECVD-II-500A
面议纳米线生长专用设备
面议碳纳米纤维膜系统 BTF-1400C-CN-80
面议流化床—粉体碳纳米管生长设备
面议连续进出料等离子体增强回转PECVD设备-BTF-1200C-RP-PECVD
面议回转CVD设备 BTF-1200C-V-R-280
面议分体式升华设备将热场置于手套箱(简易款)
面议半导体前驱体提纯仪/药品提纯仪/去金属离子提纯仪(试验级)
面议实验级升华仪BOF-7-100(新款)
面议实验级升华仪BOF-5-50
面议升华仪 BOF-7-100
面议主要特点
高真空封口机专为OLED老化试验封装而设计,本设备配备高真空机组,氢气发生源,旋转真空机构,微调结构等。设备操作简单、安全、方便。
技术参数
额定功率 | 500W |
额定电压 | AC220V 50/60HZ |
烧口方式 | 自动旋转,氢气烧结 |
氢气发生量 | 500ML/min |
旋转速度 | 0-10转/min 可调 |
抽气速率 | 可微调 |
真空度 | 1x10-4pa |
火焰温度 | 1200度 |
装载试管尺寸 | 外径≤φ20,长度≤400mm |
设备尺寸(长*宽*高) | 约1000*600*1500mm |
设备净重 | 约90KG |
主要部件及技术指标
高真空机组
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前级泵 | MD1隔膜泵 抽速(50HZ):1.2m3/h 噪音(50HZ),典型值:40dBA |
分子泵 | 进气口法兰:KF40 对N2抽速(KF40口径):49 l/s 转速:81,000rpm 控制器:Rack Controller 独立控制器 极限真空:2*10-7 mbar 工作温度:5℃到35℃ 烘烤温度:80℃在进气口处 输入电压和频率:90V to 240V AC; 50 Hz / 60 Hz 通讯接口:RS232,9针接口 T-Plus软件 |
真空规 | FRG700全量程规管,测量范围从大气到5x10-9mbar |
氢气发生源 | |
输出流量 | 0-510ml/min |
输出压力 | 0.02-0.4MPa(常规)/0.02-0.7MPa(高压)(稳压输出) |
氢气纯度 | >99.999%/>99.9999% |
输出功率 | <200W |
电源电压 | AC 220V 110V 50-60HZ |
外形尺寸(长*宽*高) | 420*227*352mm |
水质要求水的阻力 | ≥1MΩ/CM |
装机重量 | <15kg |
旋转真空结构 | |
调速电机 | 直流调速电机,转速0~20rpm |
旋转密封 | 磁流体旋转密封 |
预抽真空微调结构 | |
公称通径 | Φ3mm |
公称压力 | 16Mpa |
介质 | 水、气、油,手动操作 |
配件 | |
波纹管 | 主管路KF25波纹管 |
压力表 | -0.1mpa-0.15mpa |
毛细管道 | Φ3mm |
挡板阀 | KF25 |
万向轮 | 3”带刹车 |