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合肥市所在地
回转放气炉 BTF-700C-III-R
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间歇式CVD回转炉 BTF-1200C-III-150-CVD
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智能型大口径高真空退火炉 BTF-1100C-IIIA-05
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单温区立式搅拌炉 BTF-700C-VT-50
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智能升降钟罩炉 BTF-1200C-BELL
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小型浮动催化系统 BTF-1500C-CVD
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大口径立式高温炉 BTF-1200C-VI-VT-530
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箱式滑轨热压炉 MF-1200C-SL-VP
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公斤级回转炉 BTF-1200C-III-R-150
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粉体碳纳米管生长设备 BTF-1200C-3VT-5Z
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1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空）型号：BTF-1200C-II-CVD
面议
双温区滑轨式PECVD系统PECVD-II-500A
面议此款设备简易分体式结构，能将升华体置于手套箱内部，控制部分及真空部分置于手套箱外，成本低，操作简易。能初步满足材料进出及升华过程中的气氛保护要求。法兰为球头真空吸附方式密封，无需工具操作，大大降低了手套箱内的操作难度，整个操作过程材料与大气隔绝，避免了大气中水、氧的影响以及灰尘的污染，是制备高纯度半导体前驱体及相关材料的。
技术参数：
设备长度500mm，亮面不锈钢
外管尺寸50mm*700mm
单层金属滤网，简易拆卸，易清洁保养
每段加热区长度=100+200+100mm
软件温控保护温=600°C
极限真空10^-4Pa
升华炉体内置于手套箱内
