主要特点

　　公司研制的连续碳纳米管、纳米线生长专用设备。由气流控制系统、液体注入系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统，红外烘干系统等组成。生长炉的温度1400℃，并可在0-1400℃之间连续可调，垂直式分布热场，两点控温，设备顶部设有注液口、导流器。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点，是碳纳米管或膜产业化的重大突破，技术。

技术参数

　　1、炉管下面加水槽，材质为不锈钢材质，水槽为梯形结构设计，方便出丝操作。

　　2、水槽内，炉管正下方位置加收丝轮，并有电机驱动，收丝轮材料为不锈钢，直径40mm，表面光滑。

　　3、炉管下端加喇叭口，截面为方形，两个面(正面和右侧免)镶嵌一块100x100mm的有机玻璃(可视面积为70x70mm)，便于观察出丝情况。

　　4、注液针头伸入炉内高度可调，材质不锈钢管，外径3mm，可与粗管相连接。

　　5、溶液注射泵与炉体等高，缩短注射器至炉体注液口距离，注射泵和注液口用软管相连接。

　　6、气路管道全部改为不锈钢管。

　　7、炉内注液口喷嘴温度可测量，法兰经过改装为铠装法兰，方便测温。

　　8、炉管下端法兰采用水冷法兰，水冷机客户自备。

　　9、加热炉是否需要考虑与下面方管可拆分，方便叉车操作，以便于更换炉管。

　　10、 电控柜长度加长200mm，方便电控部分安装。

　　11、 收丝部分采用三个步进电机控制，转速为0-100r/min，连续可调。

　　12、 注液口法兰上的热电偶可调节伸入的距离，方便测温。