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1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空）型号：BTF-1200C-II-CVD
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双温区滑轨式PECVD系统PECVD-II-500A
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实验级升华仪BOF-7-100(新款)
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实验级升华仪BOF-5-50
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升华仪 BOF-7-100
面议主要特点
VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热，专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结，采用双层壳体结构，使得壳体表面温度小于65℃，高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料，主要应用领域如碳纳米管生长，陶瓷烧结退火，单晶生长等。
技术参数
| 额定功率 | 5.2KW |
| 额定电压 | AC220V |
| 温度 | 1600℃ |
| 工作温度 | ≦1500℃ |
| 推荐升温速率 | 10℃/min |
| 炉管尺寸 | 外径φ100×长度900mm |
| 加热区高度 | 300mm |
| 热电偶 | B型热电偶 |
| 测温元件 | 雷泰红外枪 |
| 控温方式 | 模糊PID控制和自动整定调节，智能化30段可编程控制 |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 加热元件 | A4硅钼棒(Φ6*280*220*30) 数量：4根 |
| 密封系统 | 水冷卡箍法兰组件 |
| 炉体尺寸 | 长550mm×宽550mm×1650mm |
| 设备净重 | 145KG |
