XQ15-G1-平面激光干涉仪-上海光密仪器有限公司手机版

详细介绍

用途：
XQ15-G1激光平面干涉仪可广泛用于工厂的计量室、光学车间和科研院所的实验室。光学平面的平面度测量、光学平板的微小楔角测量、光学材料均匀性测量、光学薄板波前误差的测量。
特点：
防震性能好、有的条纹锁定度、视场清晰、生产场所可用性优于市场同类产品，大容量的工作室为大批量生产企业的大镜面检测提供了方便。
技术参数：
标准平面（A面），工作直径D1=Φ146mm，平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)
第二标准平面（B面），工作直径D2=Φ140mm，平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)
准直系统----------------－工作直径Φ146mm，焦距 f = 400mm
光源规格----------------－激光ZN18(He-Ne)
干涉室尺寸----------------Φ480×380×285mm

选配件一：
精密升降工作台（适用GⅠ、GⅡ型）
用途：主要用于平晶、平行平晶等非镀膜面高精度平面度的测量与检定以及仪器采用钠光或汞光照明时的测量。

选配件二：
透检工作台（适用GⅠ型）
用途：主要用于超薄平行平板的波前误差测量、光学平板微小楔角相对干涉测量以及光学材料折射率均匀性的偏差判断。

选配件三：
高反射面测量工作台（适用GⅠ、GⅡ、GⅢ型）
用途：主要用于镀反射膜及高折射率材料（如硅、锗等材料）表面精度的测量与检定。

选配件四：
显示监控系统（适用GⅠ型）
用途：显示监控系统的应用，可减轻操作者的劳动强度，并可实施多人判读与分析，以达到教学与监控的目的。

选配件五：
计算机影像系统（适用GⅠ、GⅡ、GⅢ型）
用途：影像系统的应用，可将被检测镜面的原始资料通过计算机保存和传输，以达到资料存档及远程监控、验收评定质量的目的。

选配件六：
倍率成像测微系统（适用GⅠ、GⅡ、GⅢ型）
用途：主要用于目视精确量值的索得及小型被测件干涉条纹按要求放大测量与判读。
技术参数：
测微目镜放大率15X
倍率成像测微目镜适用范围见下表：

规格 size	焦距 focal length(mm)	放大倍率（β） magnification	适用被测口径 Working aperture
F15	151	0.56	Ф90~Ф150
F23	23	0.86	Ф50~Ф105
F37	37	1.39	Ф60以下

产品简介

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