1、设备主要技术指标：

(1) 曝光面积： 200mm×200mm； 

（2）分辨力：?3mm；

（3）对准精度：±2mm；

（4）掩模尺寸：5英寸、7英寸、9英寸；

（5）样片尺寸：4英寸、6英寸、8英寸；

（6）wafer chuck表面：防止光反射涂层；

（7）掩模样片整体运动范围：X：10mm;Y:10mm；

（8）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm;   Y: ±5mm;  q:  ±6°；

（9）汞灯功率：1000W（直流）；

（10）曝光能量密度：≥ 15mW/cm；

（11）光源能量控制：光源恒功率（每日测量光强，微调recipe(参考356nm波长) ；

（12）曝光峰值波长:365nm；

（13）曝光方式：定时（倒计时方式0.1s—9999.9s）；

（14）光刻版夹具兼容性

（15）具有盲曝粗对准功能。

2．技术主要组成部分

（1）曝光头系统包括:

     ¨ 冷光椭球镜；

¨ 德国OSRAM1000W直流高压汞灯；

¨ XYZ汞灯调节台；

¨ 光学系统（冷光紫外平面反射镜、快门、蝇眼透镜组、冷光紫外抛物面反射镜）；

¨ 冷却风扇。

（2）对准工件台系统包括:

¨ 掩模样片相对运动台；

¨（XY），转动台；

¨ 样片调平机构；

¨ 样片调焦机构；

¨ 承片台3个： 4英寸、6英寸、8英寸；

¨ 掩模夹3个：5英寸、7英寸、9英寸。

（3）CCD对准显微镜系统包括:

¨4倍显微镜2只；

¨照明光源2套；

¨ CCD相机2只；

¨22英寸液晶显示器。

（5）电控系统：

¨ 汞灯触发电源(1000W)；

¨ 单片机控制系统；

¨ 控制柜桌。

（6）气动系统系统包括:

¨ 气缸、电磁阀、减压阀、气动开关，电磁阀驱动，气动仪表等

（7）其他配置与附件

¨真空泵一台；

¨空压机一台；

¨ 配套气管10m；

3.相关技术资料：

     ¨设备使用及维护说明书

¨出厂检验合格证。