近位抽取多通道激光氨逃逸在线分析系统

一、项目概述

      近位多通道激光氨逃逸分析系统是在近位抽取基础上，针对监测烟道较大，为使测量更具代表性，需要多点监测的用户需求，或者是需要多个监测烟道同时测量、一个仪表控制的用户需求。用户根据多路氨逃逸的测量数据，优化、调整喷氨工艺，可以提高脱硝效率。近位多通道激光氨逃逸分析系统一个仪表控制多路氨逃逸测量系统，具备近位抽取激光氨逃逸分析系统的所有特点。

二、测量原理

      系统采用可调谐半导体激光吸收光谱（TDLAS）技术进行NH₃的测量，以可调谐激光器作为光源，发射出特定波长激光束，穿过待测气体，通过分析被测气体中NH₃分子吸收导致的激光光强衰减，根据朗伯比尔定律，气体浓度与其吸收光强成比例关系，从而实现高灵敏快速精确监测待测气体中NH₃浓度。因为激光谱宽特别窄（小于0.0001nm），且只发出待测气体吸收的特定波长，使得测量不受测量环境中其它成分的干扰，相比其它复合光源而言，具有*的测量精度。

   朗伯比尔定律：    

   其中光谱吸收系数：

三、测量方案

      根据脱硝氨逃逸测量点高温、高湿、高粉尘、震动等工况特点以及测量浓度低、测量精度要求高等要求，方案采用了大方科技经典的近位抽取+多反长光程测量池技术，一个仪表控制多路氨逃逸测量，每一路都有单独的近位抽取分析测量系统。

      系统由多路取样分析单元和仪表组成，每路取样分析单元单独安装于烟道上，烟气经采样探头取样后直接进入各自样气室进行测量分析，无须伴热管线。采用抽取方式可以避免烟尘和烟道振动等对测量的影响。近位抽取方式则避免了伴热管线传输造成的响应时间的影响。烟气流经管路及样气室全部采用高温加热，保证烟气取样过程中无氨气吸附。分析单元采用多次反射样气室，测量光程可达30米，可大大提高检测下限。 

四、系统特点

1 采用TDLAS技术，不受背景气体影响

      系统采用可调谐二极管激光吸收光谱技术进行气体的测量，由于激光谱宽特别窄（小于0.0001nm），且只发射待测气体吸收的特定波长，使测量不受测量环境中其它成分的干扰。

2 系统无漂移，避免了定期校正需要

      系统采用波长调制光谱技术，并且进行动态的补偿，实时锁住气体吸收谱线，不受温度、压力以及环境变化的影响，不存在漂移现象。

3 全程高温伴热，避免氨气吸附损失

      抽取气体直接进入气室，不需要经过伴热管线，烟气接触的流路全程高温伴热无冷点，避免氨气吸附和损失，保证样气真实性。

4 采用多次反射样气室，极大地提高测量精度

      系统采用多次反射测量池技术，光程可达30米，极大地提高了测量精度。

5 多路测量，更有代表性

      单个仪表可以控制多达六路监测，每路皆具有自动反吹控制，反吹间隔和反吹时长根据工况设置，有效避免滤芯堵塞，测量更有代表性。

6 安装使用方便

      分析系统适合安装在不同工业环境下，模块化设计，安装方便，开机预热后便可正常运行无需进行现场光路调试。滤芯采用覆膜工艺制造，后置安装，无需专业工具拆卸，更换和清理极其方便。

7 技术，便于维护光学器件

      大方科技*的样气室设计，包含维护窗口，可以在不影响光路的情况下，对污染的光学器件进行清洁，无需重新调节光路，让维护更加快速方便。

8 仪表自检及自恢复功能

      大方科技分析仪带有智能自检及自恢复功能，软件可以自动探测分析仪的测量异常状态，可以通过自检及自恢复，使分析仪重新恢复测量工作状态。

9 自主知识产权

      大方科技深耕TDLAS技术领域20年，针对国内应用现场监测难点进行专业和定制化开发，拥有数十项发明和软件著作权，对产品拥有*自主知识产权，产品具有高可靠性和适用性。

五、典型应用：

      大型机组、自备电厂脱硝氨逃逸监测；

      工业锅炉脱硝氨逃逸监测； 

      炼焦企业脱硝氨逃逸监测。