激光脱硝氨逃逸在线分析系统

一、项目概述

      脱硝喷氨过程需要准确监测氨逃逸浓度，该款脱硝氨逃逸监测产品是大方科技近十年氨逃逸监测的经典款，拥有上千套成功应用案例。该产品采用传统抽取式技术路线结合大方科技的多次反射技术，具有可靠性高、安装维护方便，测量精度高等特点。

二、测量原理

      系统采用可调谐半导体激光吸收光谱（TDLAS）技术进行NH₃的测量，以可调谐激光器作为光源，发射出特定波长激光束，穿过待测气体，通过分析被测气体中NH₃分子吸收导致的激光光强衰减，根据朗伯比尔定律，气体浓度与其吸收光强成比例关系，从而实现高灵敏快速精确监测待测气体中NH₃浓度。因为激光谱宽特别窄（小于0.0001nm），且只发出待测气体吸收的特定波长，使得测量不受测量环境中其它成分的干扰，相比其它复合光源而言，具有*的测量精度。

   朗伯比尔定律：    

   其中光谱吸收系数：

三、测量方案

      根据脱硝氨逃逸测量点高温、高湿、高粉尘、震动等工况特点以及测量浓度低、测量精度要求高等要求，产品采用大方科技经典的抽取+多反长光程测量技术，烟气通过采样系统取样后经伴热管线进入分析单元测量分析。采用抽取方式可以避免烟尘和烟道震动等对测量的影响。烟气流经管路及样气室全部采用高温加热，保证烟气取样过程中无氨气吸附。分析单元采用多次反射样气室，测量光程可达30米，可大大提高测量精度。 

四、系统特点

1 采用TDLAS技术，不受背景气体影响

      系统采用可调谐二极管激光吸收光谱技术进行气体的测量，由于激光谱宽特别窄（小于0.0001nm），且只发射待测气体吸收的特定波长，使测量不受测量环境中其它成分的干扰。

2 系统无漂移，避免了定期校正需要

      系统采用波长调制光谱技术，并且进行动态的补偿，实时锁住气体吸收谱线，不受温度、压力以及环境变化的影响，不存在漂移现象。

3 全程高温伴热，避免氨气吸附损失

      抽取式测量的分析方式采用全程高温伴热，确保无氨气吸附损失。

4 采用多次反射样气室，极大地提高测量精度

      系统采用多次反射测量池技术，光程可达30米，极大地提高了测量精度。

5 可靠性高，运行稳定

      分析系统无任何运动部件，极大地增强了可靠性。分析仪采两级菜单操作，人机交互界面友好，根据界面提示可不需要说明书就能掌握仪器的基本操作。自动反吹，可拆卸滤芯，维护方便，运行费用低。

6 安装调试灵活

      分析系统适合安装在不同工业环境下，模块化设计，安装方便，开机预热后便可正常运行无需进行现场光路调试。

7 技术，便于维护光学器件

      大方科技*的样气室设计，包含维护窗口，可以在不影响光路的情况下，对污染的光学器件进行清洁，无需重新调节光路，让维护更加快速方便。

8 仪表自检及自恢复功能

      大方科技分析仪带有智能自检及自恢复功能，软件可以自动探测分析仪的测量异常状态，可以通过自检及自恢复，使分析仪重新恢复测量工作状态。

9 自主知识产权

      大方科技深耕TDLAS技术领域20年，针对国内应用现场监测难点进行专业和定制化开发，拥有数十项发明和软件著作权，对产品拥有*自主知识产权，产品具有高可靠性和适用性。

五、典型应用：

      电厂、水泥厂、玻璃厂、陶瓷厂、工业锅炉等企业脱硝氨逃逸监测；

      炼焦企业脱硝氨逃逸监测；

      化工厂脱硝氨逃逸监测；

      氨法脱硫氨逃逸监测。