R&D, 少量生产用立式炉

VF-1000R&D, 少量生产用立式炉

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2021-10-01 10:20:42
153
产品属性
关闭
安捷来国际股份（香港）有限公司

安捷来国际股份（香港）有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

RD1000H2100mmHeaterLGOheaterFlatzonelength160to250mmWafersizeto8inchBatchsizeto25wafersControllerModel880OptionForced-coolingsystem

详细介绍


R&D, 少量生产用立式炉：

  • High performance processing for R&D
  • Mini Batch, max 25 wafers batch processing
  • 2 to 8 inch and 300mm wafer size are available
  • Equipped with LGO heater to realize high temperature performance as mass-production equipment
  • Equipped with limited function simple control system
Outer dimension W1500×D1000×H2100mm
HeaterLGO heater
Flat zone length160 to 250mm
Wafer sizeto 8inch
Batch sizeto 25wafers
ControllerModel 880
OptionForced-cooling system, N2 load lock,
25 to 150 wafers of processing (VF-2000)
上一篇：实验室超纯水机应该如何保养？ 下一篇：QG-300D金相试样切割机使用说明
热线电话 在线询价
提示

仪表网采购电话