R&D, 少量生产用立式炉

VF-1000R&D, 少量生产用立式炉

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2021-10-01 10:20:42
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安捷来国际股份(香港)有限公司

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产品简介

RD1000H2100mmHeaterLGOheaterFlatzonelength160to250mmWafersizeto8inchBatchsizeto25wafersControllerModel880OptionForced-coolingsystem

详细介绍


R&D, 少量生产用立式炉:

  • High performance processing for R&D
  • Mini Batch, max 25 wafers batch processing
  • 2 to 8 inch and 300mm wafer size are available
  • Equipped with LGO heater to realize high temperature performance as mass-production equipment
  • Equipped with limited function simple control system
Outer dimension W1500×D1000×H2100mm
HeaterLGO heater
Flat zone length160 to 250mm
Wafer sizeto 8inch
Batch sizeto 25wafers
ControllerModel 880
OptionForced-cooling system, N2 load lock,
25 to 150 wafers of processing (VF-2000)
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