原子层沉积系统,ALD P-300 Pro,PLD薄膜沉积系统,,PED薄膜沉积系统-北京正通远恒科技有限公司

产品简介

PLD薄膜沉积系统是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的*之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有*功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A/pulse）。

详细介绍

PLD薄膜沉积系统技术参数：

型号	Pioneer240	Pioneer180	Pioneer120	Pioneer80
zui大wafer直径	8”	6”	2”	1”
zui大靶材数量	6个1” 或4个2”	6个1” 或4个2”	6个1” 或3个2”	4个1”
压力(Torr)	<10-8	<10-8	<10-8	<10-8
真空室直径	24”	18”	12”	8”
基片加热器	8”，旋转	6”，旋转	3”，旋转	2”，旋转
zui高样品温度	850 ° C	850 ° C	950 ° C	950 ° C
Turbo泵抽速（liters/sec）	800	260	260	70
计算机控制	包括	包括	包括	包括
基片旋转	包括	包括	-	-
基片预真空室	包括	选件	选件	-
扫描激光束系统	包括	选件	-	-
靶预真空室	包括	-	-	-
IBAD离子束辅助沉积	选件	选件	选件	-
CCS连续组成扩展	选件	选件	-	-
高压RHEED	选件	-	-	-
520 liters/sec泵	a/n	选件	-	-

PLD薄膜沉积系统主要特点：

*PLD概念清晰易懂：激光束使靶子表面蒸发，生产出与靶子同样化学组成的膜。
*PLD应用广泛：很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
*PLD节省成本：一束激光能够供多个真空系统使用。
*PLD高效率：在10至15分钟，可生长高质量的样品。
*PLD可升级：当需要大批量生产复合氧化物膜时，Neocera公司将证明作为生产工具的价值。