特色

独立的交钥匙PLD系统。

外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

纳米级薄膜的沉积。

外延氧化膜沉积的可编程氧兼容加热器。

自动多目标旋转多层沉积。

全干式真空泵组。

通过系统软件进行闭环压力控制。

Pioneer 120 PLD System是基础型独立PLD系统，用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该PLD系统与Pioneer 120 Advanced系统和Pioneer 180 PLD系统的主要区别是衬底加热阶段。Pioneer 120 Advanced系统使用导电加热阶段用于衬底加热， 其他模型使用辐射加热阶段。为了达到950℃ 的额定高温，基板必须与加热板紧密接触，用银浆提供加热板和基板之间的紧密接触(当需要这些高温时)。在不需要银浆的情况下，还提供衬底夹来固定衬底。在这些情况下,衬底温度可能低于额定950℃。加热器是氧兼容的，能达到1大气(760托)的氧, 这个特性有助于制备外延氧化薄膜：可能需要在氧气环境后沉积和氧气压力接近1 atmosphere后退火冷却。Pioneer 120 PLD系统包括一个自动多目标转。