应用范围

□ 测试半导体材料或其它发光特性材料在激光激发下产生的荧光光谱。常见系统采用紫外或近紫外激光激发半导体材料（III-V族如GaN等，II-VI族如ZnO、CdTe等）产生荧光，或用可见和红外激光器激发稀土掺杂的玻璃或晶体材料产生荧光，通过对其荧光光谱的测量，分析该材料的能带结构等特征。

主要规格及特色

□ 测试光谱范围：200—5000nm（可根据要求选择）

□ 激光器波长：224nm、248nm、266nm、325nm/442nm、488/514nm、532nm、946nm、1064nm等可选

□ 低温PL测试：采用液氦循环制冷系统或液氮制冷系统对样品制冷，测试样品在低温下的发光光谱特性，zui低可达2K

□ 宽光谱范围全自动光谱扫描

□ 系统由激发光源部分、样品室部分、分光部分、探测部分、信号采集处理部分、软件部分组成

□ 采用了高通光效率、低杂散光水平的单色仪和优化的光路

□ 采用锁相放大器进行信号的处理，大大的提高了系统的信噪比

□ 系统经过多年技术积累和客户的成功使用经验，具有很高的可靠性

□ 采用模块化设计，使用灵活，便于功能扩展和升级

□ 可实现样品原位测量

□ 可升级做显微的PL光谱测试

□ 可升级做EL电致发光测量

□ 可升级做电场调制光谱

□ 可升级做透射、反射光谱测试