SIC高温氧化炉-氧化扩散炉-科研氧化炉

SIC高温氧化炉-氧化扩散炉-科研氧化炉

扩散炉系列设备用途：用于大规模集成电路、太阳能电池片、电力电子、光 电器件、光导纤维等行业的氧化、扩散、烧结、合金等工艺。 设备特点：单元组合方式。根据工艺的不同，可以在主机的基础上配气源柜、超净工作台、悬臂推拉舟等。

主要技术指标：

★ 炉管数： 1～4管

★ 配工艺管口径：Φ90～360 mm (3～12英寸)

★ 恒温区长度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)

★ 单点稳定性： ±1.0℃/24h (300～800℃) ±0.5℃/24h (800～1280℃)

★ 气源路数： ≤7路，可配恒温源瓶、氢氧合成点火器

★ 气体控制： 浮子/质量流量计

★ 悬臂舟参数： 速度： 20～1000 mm/min 最 da行程：2000 mm 定位精度：±1 mm 最 da载荷：17 Kg

★ 超净工作台： 净化等级：100级（万级厂房）噪音： ≤62dB（A）振动： ≤3μm

◆闭管式扩散系统，有效降低生产成本，更洁净、更环保

◆石英舟采用软着陆送片，高可靠性

◆工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、闸门等动作进行自动控制

◆采用悬臂送片器，操作方便、无摩擦污染等

◆具有断电报警、超温报警、极限超温报警等多种安全保护功能

◆控温精度高，温区控温稳定性好

◆关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性

◆高质量的加热炉体，确保恒温区的高稳定性及长寿命